Indium Corporation、高性能半導体向け次世代銅焼結ペーストを発表:金銀めっき不要で高信頼性ダイアタッチ実現

Indium Corporation アメリカ
概要
Indium CorporationはICEPT 2026で、高出力半導体アプリケーション向けの次世代銅焼結ペーストを発表しました。このペーストは、金または銀めっきを必要とせず、高い信頼性、優れた熱的・電気的性能、および強力な接合力を実現します。これにより、パワーエレクトロニクスにおける有望なダイアタッチソリューションとして期待されます。また、同社はビスマスフリーの鉛フリー中温はんだ「Durafuse® LT」を紹介し、次世代電子機器組立での耐落下衝撃性向上とエレクトロマイグレーション率低減に貢献します。
詳細

主要成果

Indium Corporationは、ICEPT 2026カンファレンスにおいて、高出力半導体向けに設計された画期的な次世代銅焼結ペーストを発表しました。この革新的な材料は、金や銀のめっきを必要とせずに高い信頼性、優れた熱伝導性、および電気的性能を提供するという特長を持ち、パワーエレクトロニクス分野におけるダイアタッチソリューションとして大きな可能性を秘めています。

技術・事業詳細

開発された銅焼結ペーストは、従来の焼結材料と比較して、コスト効率と環境負荷低減を実現しつつ、高性能要件を満たします。特に、金銀めっきが不要である点は、製造プロセスの簡素化と材料コストの削減に直結します。高い熱伝導性と電気伝導性は、半導体デバイスからの効率的な熱放散を可能にし、デバイスの性能と寿命を向上させます。これにより、電気自動車、再生可能エネルギーシステム、産業用モーター制御など、高電力密度が求められるアプリケーションでの信頼性の高い接合が実現します。

また、Indium Corporationは、ビスマスを含まずインジウムを含む鉛フリー中温はんだ「Durafuse® LT」も紹介しました。このはんだは、次世代電子機器組立において、耐落下衝撃性を大幅に向上させ、エレクトロマイグレーション率を低減する特性を持ちます。これにより、モバイルデバイスやウェアラブル機器など、小型化と高信頼性が同時に求められる電子製品の耐久性と長期安定性が向上します。

背景・業界文脈

半導体業界では、デバイスの小型化、高性能化、および高出力化に伴い、効果的な熱管理と信頼性の高いインターコネクト(接続)技術が喫緊の課題となっています。特にパワーエレクトロニクスでは、高熱流束に対応できるダイアタッチ材料が不可欠であり、環境規制の強化に伴い鉛フリーソリューションへの移行が加速しています。Indium Corporationの新しい銅焼結ペーストとDurafuse® LTは、これらの業界の課題に対する直接的な解決策を提供します。

今後の展望

これらの先進的な接着・接合材料は、次世代半導体デバイスおよび電子アセンブリの性能と信頼性を飛躍的に向上させる可能性を秘めています。銅焼結ペーストはパワーエレクトロニクス市場における標準的なダイアタッチ材料として広く採用される可能性があり、Durafuse® LTは消費家電および産業用電子機器の鉛フリー化を推進する上で重要な役割を果たすでしょう。Indium Corporationは、これらのソリューションを通じて、より高性能で持続可能な電子機器の実現に貢献していきます。

元記事: https://www.indium.com/press-releases/indium-corporation-to-present-advancements-in-two-industry-defining-solutions-at-icept-2026/

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