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新技術・技術紹介
ATLANT 3D、シンガポールA*STAR IMREとNAMICがAI駆動型材料発見のA-HUBを設立する覚書を締結
Yahoo! Finance Canada シンガポール 概要 ATLANT 3D、A*STAR材料研究工学研究所(IMRE)、国立アディティブマニュファクチャリングイノベーションクラスター(NAMIC)は、AI駆動型材料発見を加速するため、シンガポールに先端材料開発ハブ(A-HUB)を設立... -
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六方晶窒化ホウ素(hBN)の量子フォトニクス用スピン欠陥をクリプトンイオン注入でアニーリングフリー生成に成功、量子デバイス開発を加速
arXiv 国際 概要 本研究は、クリプトンイオン注入を用いることで、六方晶窒化ホウ素(hBN)において量子フォトニクスに適したスピン欠陥をアニーリングなしで生成する画期的な方法を実証しました。温度依存性フォトルミネッセンスと電子スピン共鳴(EPR)... -
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2D硫化タングステン(WS2)の欠陥を効果的に抑制するイオンペア設計規則を確立
ChemRxiv 国際 概要 研究者らは、二次元硫化タングステン(2D WS2)における欠陥を効果的に不活性化するためのイオンペア設計規則を確立しました。この研究は、原子レベルでの欠陥制御を通じて材料特性を向上させる上で極めて重要です。これにより、2D WS2... -
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スウェーデン研究者、AIと物理計算を融合したQNM-Netで光学部品の逆設計を高速化
Laser Photonics Rev. スウェーデン 概要 スウェーデンの研究者たちは、機械学習と物理計算を組み合わせた新しい手法「QNM-Net」を開発し、フォトニクス部品の設計を大幅に高速化することに成功しました。QNM-Netは、従来のニューラルネットワークと比較し... -
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直接ナノインプリントリソグラフィを用いた非線形フォトニクスの実現
Optical Nanomaterial Group (ETH Zurich) スイス 概要 この研究は、直接ナノインプリントリソグラフィ(NIL)を非線形フォトニクスに応用することについて説明しています。ナノ粒子とカスタム設計されたゾルゲル材料を利用することで、高い光学品質を持つ... -
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POSTECHチーム、ナノインプリントリソグラフィでメタサーフェス製造のブレークスルー:EBLに匹敵する効率を実現
EurekAlert! (Pohang University of Science and Technology (POSTECH)) 韓国 概要 浦項工科大学(POSTECH)の研究チームは、従来のメタサーフェス製造の限界を克服する革新的なナノインプリントリソグラフィ(NIL)戦略を提案しました。Optics and Photon... -
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フジクラ、MITと共同で高効率三次元ナノ加工技術「ImpCarv」を発表
株式会社フジクラのプレスリリース 日本 概要 株式会社フジクラは、マサチューセッツ工科大学(MIT)との共同研究により、三次元ナノ加工技術「Implosion Carving (ImpCarv)」に関する論文をNature Photonics誌に発表しました。この技術は、高分子材料を精... -
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量子ドットレーザーがシリコンフォトニクスの光信号分離ボトルネックを打破
ナノテクノロジー ウィークリーレポート 2026年5月9日号 日本 概要 最新の研究により、量子ドットレーザーがシリコンフォトニクスにおける長年の課題であった光信号分離のボトルネックを解消する可能性が示されました。シリコンフォトニクスは、光で情報を... -
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量子ドットレーザー、シリコンフォトニクス分離技術のボトルネックを打破
概要 量子ドットレーザー技術がシリコンフォトニクスの隔離技術のボトルネックを打破し、光通信、コンピューティング、センシングの発展を加速させると発表されました。研究者は量子ドットレーザーをシリコンフォトニクス導波路と統合し、小型で優れた隔離... -
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軌道角運動量と波長を多重操作するメタサーフェス:高容量光学情報処理の新境地
概要 この研究では、任意の複素振幅制御に基づき、軌道角運動量(OAM)と波長を多重に操作できる革新的なメタサーフェスを開発しました。コヒーレントピクセル(MCP)メタサーフェスと呼ばれるこの技術は、平面波とOAM光の両方に異なる波長で同時に応答し... -
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Aeluma社がNASAから集積型量子ドットレーザー開発を受賞
概要 高性能フォトニックおよび電子技術を専門とする半導体企業Aeluma社は、統合型量子ドットレーザープラットフォームの推進に関してNASAから受賞したことを発表した。この賞は、データ通信およびセンシングアプリケーション向けのレーザー開発を支援する...
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