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imec ベルギー 概要 imecは、High NA EUVリソグラフィにおける化学増幅レジストの拡張を発表しました。これは、22nmピッチのライン構造をシングルパターニングで実現するための重要な進歩であり、より小型で高速、かつ低コストで持続可能なマイクロチップ...

ChipXpert 国際 概要 ナノインプリントリソグラフィ（NIL）は、10nm以下の特徴サイズを持つ次世代半導体チップ製造において、高解像度、低コスト、高スループットを可能にする先進的なパターニング技術として注目されています。この技術は物理的にパターン...

AZoNano オーストラリア 概要 ナノインプリントリソグラフィ（NIL）は、光や電子ビームを使用せず、機械的なスタンプを用いてナノスケールのパターンを直接転写する先進的な製造技術です。この技術は、従来のフォトリソグラフィの限界を超えるサブ10nmの微...