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PLP|半導体後工程 技術解説

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PANEL LEVEL PACKAGING · TECHNOLOGY EXPLAINER

PLPとは何か

丸いウェハをやめ、四角い大判パネルで作る。半導体は長いあいだ「丸いウェハ」で作られてきました。しかしパッケージを作る工程では、 丸い形が不利に働きます。液晶パネルのような四角い大判で作ろうという発想と、 そこに立ちはだかる材料の問題を解説します。

構成:SEMI・imec・レゾナックの公表資料を一次情報として使用/最終更新 2026年9月

大きな四角いパネル全面に同一サイズの半導体パッケージが整然と並ぶAI生成概念図 AI生成概念図|実製品写真ではありません・not to scale
この記事の構成
  1. PLPとは何か(3行でつかむ)
  2. なぜ四角なのか ― 円は四角を敷き詰められない
  3. パネルサイズの標準化(SEMI 3D20)
  4. 最大の技術課題:ダイシフト
  5. 素材技術者の視点:材料の組み合わせが結果を決める
  6. 日本の動き:レゾナック「JOINT3」
  7. 課題
  8. 用語集/参考資料/出典対応表
本記事の表記ルール

事実=標準化団体・研究機関・メーカーの公表資料に記載のある値(出典リンクあり)
本稿の計算=明示した前提をもとに本記事が算出した値
未確定/将来=計画・目標であり、量産実績が確認できていない事項

1. PLPとは何か(3行でつかむ)

PLP(Panel Level Packaging/パネルレベルパッケージング)とは、 「半導体パッケージを、丸いウェハの上ではなく、四角い大判のパネルの上でまとめて作る方式」です。

  • 作る場所が違う:φ300 mmの円ではなく、510×515 mmといった四角い板の上
  • 作るものは同じ:ファンアウト型のパッケージや、インターポーザ
  • 狙いは生産性:1回の処理でより多くの製品を作り、1個あたりのコストを下げる

ファンアウト型のパッケージをウェハ上で作る方式をFOWLP(Fan-Out Wafer Level Packaging)、 パネル上で作る方式をFOPLP(Fan-Out Panel Level Packaging)と呼びます。

前の記事との関係

「RDL(再配線層)」編では、チップの上に直接作る配線層を扱いました。 PLPは、その工程を「どの形の土台の上で行うか」という話です。 作る中身ではなく、作る場の形を変える——製造の側からの発想です。

2. なぜ四角なのか ― 円は四角を敷き詰められない

理由は、幾何学的なものです。丸い面から四角いものを切り出すと、必ず外周が捨て地になります。 そして切り出すものが大きくなるほど、この損失は大きくなります。

円形ウェハでは外周に捨て地が残り、角形パネルでは四角いパッケージを端まで配置できることを示すAI生成概念図
φ300 mmウェハ21個・面積利用率74%外周に四角を置けない捨て地が残ります。
510 × 515 mmパネル100個・面積利用率100%同じ50 mm角を直線的に配置した本稿の計算です。
1枚あたりの取れ数約4.76倍面積比は約3.72倍。外形の違いが差を広げます。
図1 AI生成概念図+本稿の計算。画像は円と四角の形状差を説明するもので、実寸比・個数を正確に描いていません。数値は50 mm角、エッジ除外なしの計算条件です。

パッケージが大きいほど、差は開く

同じ計算を、パッケージ寸法を変えて行うと、傾向がはっきり出ます。

パッケージ寸法φ300 mmウェハ510×515 mmパネル1枚あたりの取れ数比ウェハの面積利用率
25 mm角93 個400 個4.30 倍82%
50 mm角21 個100 個4.76 倍74%
75 mm角7 個36 個5.14 倍56%

すべて本稿の計算。面積比(3.72倍)は一定なのに、取れ数の比は4.30倍→5.14倍へ増えていきます。差の正体は、円の外周に生じる捨て地です。

なぜ「いま」PLPなのか

上の表がそのまま答えです。パッケージが大きくなるほど、円形ウェハの不利が拡大します。 75 mm角ともなると、ウェハの面積利用率は56%——半分近くを捨てていることになります。

そしていま、AI向けのパッケージはまさに大型化の途上にあります (「CoWoS」編で見たとおり、インターポーザは14レチクル=108 mm角相当まで計画されています)。 大型化がPLPの動機を年々強くしている——これが、長く研究段階にあったこの技術が いま急に注目されている理由です。

一辺が50センチを超える四角いパネルの上に、多数の同一のパッケージが格子状に整列している様子の概念イメージ
図2 概念図(AI生成イメージ)。大判パネル上に多数のパッケージが配置された状態を表現したものです。実際のパネル寸法・個数を正確に示すものではありません。

3. パネルサイズの標準化(SEMI 3D20)

PLPには、技術以前の問題がありました。各社がばらばらのパネルサイズで開発していたことです。

SEMIは2018年8月28日のブログで、この状況をこう説明しています事実。 各社が技術的・事業的な目標や慣れにもとづいてサイズを選んだ結果、 10を超えるサイズについてプロセスが開発されていた。 そして業界関係者はこれに既視感を覚えた——1970年代、各デバイスメーカーが独自のウェハサイズ仕様を作り、 外部の装置メーカーが一社専用の装置を作りたがらないために、自前で装置を作らざるを得なかった時代です (SEMI)。

SEMIが業界に調査したところ、「標準パネルサイズを支持するか」という問いに70%超が賛成、 反対は2%未満という結果でした事実。 また、寸法以外に標準化すべき項目としてエッジプロファイル、平坦度、反りが多数の回答で挙がりました事実。

SEMI 3D20

その後成立したのがSEMI 3D20「パネルレベルパッケージング(PLP)用途のパネル特性仕様」です。 初版はSEMI 3D20-0719(2019年7月)、現行版はSEMI 3D20-0921(2021年9月・技術改訂)です事実。

規定対象は、パネルの外形寸法(プロセスキャリアの有無を問わない)、厚さ、反り、質量。 規格の要旨には、「多数のパネルサイズ、厚さ、反り、質量が検討されており、 それが技術の導入を遅らせ、パネル種別ごとに装置とプロセスのカスタマイズを要求している」と述べられています事実 (SEMI 3D20)。

参照規格にはSEMI M1(研磨単結晶シリコンウェハ仕様)が含まれています。 ウェハの標準化がかつて装置産業を生んだのと同じ形を、パネルでも作ろうとしていることが分かります。

実際に使われている寸法としては、510×515 mmが複数の日本企業の公表資料に現れます。 本記事の第6章で扱うレゾナックのパネルレベル有機インターポーザ、 そして「ガラス基板」編で扱った日本電気硝子のガラスコア基板が、いずれもこの寸法です事実。

4. 最大の技術課題:ダイシフト

PLPの技術的な中心課題は、意外に思われるかもしれませんが「ダイが動いてしまうこと」です。

なぜダイが動くのか

ファンアウト型パッケージの代表的な作り方は、モールドファーストと呼ばれる手順です。

  1. キャリア(支持板)の上に、一時接着材を塗る
  2. その上に、個片化したダイを正確な位置に並べる
  3. 全体を樹脂で封止(モールド)する
  4. キャリアを剥がし、封止された面に再配線層(RDL)を形成する

問題は③です。封止樹脂は硬化するときに収縮し、加熱・冷却で伸び縮みします。 その流動と収縮に押されて、②で正確に並べたはずのダイが、わずかにずれる。これがダイシフトです。

一時接着、ダイ配置、樹脂封止、キャリア剥離と再配線までを4段階で示すAI生成概念図
1|一時接着材キャリア上に薄い接着層を形成します。
2|ダイ配置個片ダイを狙った位置へ正確に並べます。
3|樹脂封止流動・硬化収縮・熱変形がダイをわずかに動かします。
4|剥離とRDL位置がずれると、後工程の微細配線との整合が難しくなります。
図3 AI生成概念図。ダイシフトが生じる工程上の位置を示します。ずれ量、収縮方向、工程装置は正確な再現ではありません。
封止樹脂が流れ込みながら、並べられたダイをわずかに押し動かしている様子を表した概念イメージ
図4 概念図(AI生成イメージ)。封止樹脂の流動がダイの位置に影響するという定性的な関係を、誇張して表現したものです。実際のずれ量や解析結果を示すものではありません。

5. 素材技術者の視点:材料の組み合わせが結果を決める

ダイシフトと反りの問題に、imecが正面から取り組んだ成果が公表されています。

この成果の適用範囲について

以下に引用するimecの実証は、300 mmウェハ上でのファンアウト(FO-WLP)として行われたものです事実。 パネルでの結果ではありません。ただし、ダイシフトと反りという課題はウェハ段階ですでに中心的であり、 パネルへ移るとこの難易度はさらに上がります。到達している精度の水準を知るための参照としてご覧ください。

公表されている数値

項目公表内容
配置精度の目標ダイ・キャリア間で ±3 µm
達成値200℃・2時間の曝露後でも、ダイ・キャリア間のずれ 2 µm未満
反り300 mmウェハ全面で 200 µm未満
評価これらの値は「文献で報告されている値を大きく下回る」
バンプピッチ40 µm および 20 µm
パッケージ厚300〜400 µm(はんだボールを除く)

すべて事実(imec)。この成果は2019年の3D InCites Process of the Year Awardを受賞しています。

何を組み合わせたのか

注目すべきは、imecがこれを単一の材料や装置ではなく、組み合わせの最適化として解いている点です。

透明な一時接着材、封止材、キャリアと剥離方式が一つの安定したファンアウトパッケージへつながるAI生成概念図
一時接着材貼る・剥がす・耐熱に加え、位置認識のための透明性が必要です。
封止材imecは液状と顆粒を比較し、顆粒材の高温安定性を報告しています。
キャリアと剥離機械剥離とレーザーアシスト剥離を、生産性まで含めて選びます。
図5 AI生成概念図。結果が単一材料ではなく、接着材・封止材・キャリア/剥離の組み合わせで決まることを示します。画像はimecの実験装置を再現したものではありません。
素材技術者にとっての読みどころ

「一時接着材が透明でなければならない」——この一点だけでも、材料設計の制約の性質がよく分かります。 接着材に求められる機能は、本来なら「貼る」「剥がす」「耐熱」です。 ところがここでは、その下のアライメントマークを見通すための光学的な透明性が加わっています。 接着材が、光学部品としての性能も問われている。

「液状より顆粒のほうが安定、理由はガラス転移温度が高いから」—— これも示唆的です。同じ組成系でも供給形態(液状/顆粒)が違えば熱物性が変わり、 それがダイの位置精度という、一見無関係な結果に直結します。

そして剥離方法が2枚のキャリアで違う(機械的/レーザーアシスト)ことも重要です。 同じ「一時的に貼って剥がす」という機能でも、工程のどこで使うかによって最適解が変わります。 PLPの材料開発が難しいのは、個々の材料の性能ではなく、この組み合わせの数が多いからです。

6. 日本の動き:レゾナック「JOINT3」

2025年9月3日、レゾナックは27社が参加するコンソーシアム「JOINT3」の立ち上げを発表しました事実 (レゾナック)。

項目公表内容
参加企業27社
構成レゾナックが主導し、日本・米国・シンガポールなどの26社が参加
対象パネルレベル有機インターポーザ(510×515 mm)の製造プロセス開発
狙い参加企業との共創により、材料・装置・設計ツールの開発を加速する
用途AI半導体・HBM向けの2.xDパッケージ(複数チップを並列配置)
拠点APLIC(茨城県結城市・下館事業所)、パッケージングソリューションセンター(川崎市)
時期試作ラインは2026年稼働予定

すべて事実(レゾナック 2025年9月3日発表)。同社はこの取り組みを、円形ウェハから角形パネルへ移行して生産効率を高めるという業界課題への対応と位置づけています。

「材料・装置・設計ツール」を一度に扱う意味

第5章で見たとおり、PLPの結果は材料の組み合わせで決まります。 そして組み合わせを評価するには、実際に流せるラインと、それを設計するツールが要ります。 1社では閉じない。だからコンソーシアムという形になる—— 材料産業が単独で材料だけを売る時代ではなくなっていることの表れだと読めます。

7. 課題

(1) 反り

面積が広いほど、反りは大きくなります。SEMIの調査でも、寸法に加えて標準化すべき項目として 平坦度と反りが挙げられていました事実。 パネル全面で平坦度を保つことが、露光の焦点深度や後工程の搬送に直結します。

一辺50センチを超える薄いパネルが自重と熱で緩やかに反っている様子の概念イメージ
図6 概念図(AI生成イメージ)。大判パネルに生じる反りを誇張して表現したものです。実際の反り量や解析結果を示すものではありません。

(2) 大面積での均一性

露光、めっき、成膜——いずれもパネルの全域で条件を揃えなければなりません。 中心と端で膜厚や線幅が変われば、端の製品だけが不良になります。

(3) 歩留まりの重み

1枚のパネルで100個を作るということは、1枚の失敗で100個を失うということでもあります。 取れ数が増えることは、同時に1枚あたりのリスクが増えることを意味します。

(4) 装置の新規性

円形ウェハ用の装置は、そのままでは使えません。 搬送も、保持も、回転を前提としたスピンコートのような工程も、四角い大判では成り立たない場合があります。 SEMI 3D20が装置産業の立ち上がりを狙って寸法を標準化したのは、この事情によるものです。

8. 用語集

PLP
Panel Level Packaging。四角い大判パネル上でパッケージを製造する方式。
FOPLP
Fan-Out Panel Level Packaging。ファンアウト型パッケージをパネル上で作る方式。
FOWLP
Fan-Out Wafer Level Packaging。同じものをウェハ上で作る方式。
モールドファースト
ダイを並べて先に封止し、そのあとに再配線層を作る手順。
ダイシフト
封止時の樹脂の流動と収縮によって、並べたダイの位置がずれる現象。
キャリア
製造中にダイやパネルを支える一時的な支持板。
一時接着材(TBM)
キャリアに一時的に貼り付けるための材料。工程後に剥がす。
デボンディング
キャリアを剥がす工程。機械的方法とレーザーを使う方法がある。
モールド材
ダイを封止する樹脂。液状と顆粒の供給形態がある。
ガラス転移温度(Tg)
樹脂が硬い状態から柔らかい状態へ変わる温度。
エッジ除外
ウェハやパネルの外周で、品質が保証されず製品を作らない領域。
SEMI 3D20
PLP用途のパネル寸法・厚さ・反り・質量を規定するSEMI規格。
SEMI M1
研磨単結晶シリコンウェハの仕様規格。3D20が参照している。
有機インターポーザ
シリコンではなく有機材料で作るインターポーザ。
2.xDパッケージ
複数のチップを並列に配置する実装形態の総称。

9. 参考資料(一次情報)

  1. SEMI「Standard for Fan-Out Panel Size Ready to Ballot」2018年8月28日 — semi.org
  2. SEMI「SEMI 3D20 — Specification for Panel Characteristics for Panel Level Packaging (PLP) Applications」 — store-us.semi.org
  3. imec「Temporary bonding and mold process to enable next-gen fan-out wafer-level packaging」imec magazine 2020年4月 — imec-int.com
  4. レゾナック「27社が参画するコンソーシアム『JOINT3』を立ち上げ」2025年9月3日 — resonac.com
  5. 日本電気硝子「515x510mm大型パネルサイズのガラスセラミックスコア基板『GCコア™』を開発」2025年1月15日 — neg.co.jp

10. 主張と出典の対応表(監査)

本文の主張根拠区分
取れ数:25 mm角で93個対400個、50 mm角で21個対100個、75 mm角で7個対36個。面積利用率82%/74%/56%。面積比3.72倍φ300 mmウェハ(π×150²)と510×515 mmパネルについて、グリッド配置・4隅がウェハ内に収まる条件・配置オフセット最適化により算出。実際のエッジ除外は考慮していない本稿の計算
各社が10を超えるパネルサイズで開発していたこと、1970年代のウェハサイズ乱立との類似、標準化への賛成70%超・反対2%未満、標準化すべき項目としてエッジプロファイル・平坦度・反りが挙がったことSEMI ブログ(2018/8/28)[参考資料 1]https://www.semi.org/en/blogs/semi-news/standard-for-fan-out-panel-size-ready-to-ballot事実
SEMI 3D20はPLP用途のパネル外形寸法・厚さ・反り・質量を規定。初版3D20-0719(2019年7月)、現行3D20-0921(2021年9月)。SEMI M1を参照。多数のサイズが技術導入を遅らせ装置のカスタマイズを要求しているという要旨SEMI 3D20 規格情報ページ[参考資料 2]https://store-us.semi.org/products/3d02000-semi-3d20-en-specification-for-panel-characteristics-for-panel-level-packaging-plp-applications事実
imec:配置精度目標±3 µm、200℃2時間後もダイ・キャリア間ずれ2 µm未満、300 mmウェハ全面で反り200 µm未満、文献値を大きく下回る、バンプピッチ40 µmと20 µm、パッケージ厚300〜400 µm、2019 3D InCites Process of the Year受賞imec magazine(2020年4月)[参考資料 3]https://www.imec-int.com/en/imec-magazine/imec-magazine-april-2020/temporary-bonding-and-mold-process-to-enable-next-gen-fan-out-wafer-level-packaging事実
imec:BrewerBOND® C1301(室温ダイボンディング用、位置認識のため十分に透明)、モールド材は液状と顆粒を比較し顆粒のほうが温度に対し安定(ガラス転移温度が高いため)、1枚目キャリアはアライメントマーク付きシリコンで機械的剥離、2枚目はスループットと生産性のためレーザーアシスト剥離imec magazine(2020年4月)[参考資料 3]https://www.imec-int.com/en/imec-magazine/imec-magazine-april-2020/temporary-bonding-and-mold-process-to-enable-next-gen-fan-out-wafer-level-packaging事実
imecの実証は300 mmウェハ上のFO-WLPであり、パネルでの結果ではないimec magazine(2020年4月)。本文および注記で明示[参考資料 3]https://www.imec-int.com/en/imec-magazine/imec-magazine-april-2020/temporary-bonding-and-mold-process-to-enable-next-gen-fan-out-wafer-level-packaging事実
レゾナックJOINT3:27社、510×515 mmのパネルレベル有機インターポーザ、材料・装置・設計ツールの共創、2.xDパッケージ、APLIC(茨城県結城市)と川崎、試作ライン2026年稼働予定レゾナック ニュースリリース(2025/9/3)[参考資料 4]https://www.resonac.com/news/2025/09/03/3599.html事実
日本電気硝子のガラスコア基板が515×510 mm日本電気硝子 ニュースリリース(2025/1/15)[参考資料 5]https://www.neg.co.jp/news/20250115.html事実
樹脂の収縮でダイが動くこと、ずれが中心からの距離に比例すること、面積が広いほど反りが大きくなること、1枚の失敗で多数を失うこと材料工学・製造上の一般的な関係にもとづく解説。特定製品の数値主張は行っていない解説

最終更新:2026年9月20日/出典は一次情報(標準化団体・研究機関・メーカーの公式発表および規格情報)に限定しています。 図はすべて説明用のAI生成概念図であり、実際の製品写真、構造、寸法比、工程条件を正確に表すものではありません。名称・数値・計算条件は生成画像へ焼き込まず、HTMLテキストとして分離しています。