Troy197173– Author –
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ニアパッケージドオプティクス（NPO）とは何か？その簡易ガイド
Optcore 国際 概要 ニアパッケージドオプティクス（NPO）は、従来のプラグ可能型光モジュールと比較して、光モジュールをスイッチASICにPCB上でより近く配置する光相互接続アーキテクチャです。NPOは電気信号の伝送距離を短縮し、信号品質を向上させます。... -
NVIDIA Vera Rubin Ultraアーキテクチャ、AIネットワーキングをCo-Packaged Optics（CPO）時代へ導く
Radiant Blog アメリカ 概要 NVIDIAがGTC 2026で発表したVera Rubin Ultraアーキテクチャは、Co-Packaged Optics（CPO）を理論的な概念から、ギガワット規模のAI展開に不可欠な生産技術へと移行させるものです。CPOは、フォトニック集積回路と電子集積回路... -
NVIDIAの40億ドル光戦略：Co-Packaged Optics（CPO）がAIネットワーキングをいかに変革するか
Medium (I/O Fund) アメリカ 概要 NVIDIAは、CoherentとLumentumという光部品サプライヤーに総額20億ドルの株式投資を行うなど、Co-Packaged Optics（CPO）技術に巨額の投資を行っています。これは、AIネットワーキングにおけるCPOが理論段階から実用段階... -
AIデータセンター向けCo-Packaged Optics (CPO)の包括的解説
Fibermart 国際 概要 AIデータセンターにおいて、Co-Packaged Optics (CPO)は革新的な技術として注目されており、低消費電力、高帯域幅密度、低遅延を実現するために光コンポーネントとコンピューティングチップを高度なパッケージングで統合します。2026... -
ナノテクノロジー ウィークリーレポート 2026年5月23日号
📄 ウィークリーレポート 2026年5月23日（PDF）をダウンロード ウィークリーレポート 2026年5月23日（PDF）をダウンロードダウンロード 🎙 ポッドキャスト 2026年5月23日（MP3）を再生・ダウンロード ナノテクノロジーポッドキャスト2026052... -
ナノインプリントリソグラフィの可能性を最大限に引き出す：AR、3Dセンシング、バイオテクノロジーへの応用
Compound Semiconductor News イギリス 概要 この記事は、従来のシリコンMOSFETを超え、拡張現実（AR）、先進3Dセンシング、高帯域幅データ通信/通信、バイオテクノロジーデバイスなど、様々な半導体デバイスにおけるナノインプリントリソグラフィ（NIL）... -
キヤノンのナノインプリントリソグラフィロードマップ 2015-2026：J-FIL技術の進化
PatSnap シンガポール 概要 このPatSnapの記事は、キヤノンの2015年から2026年までのナノインプリントリソグラフィ（NIL）ロードマップを概説し、その中核技術であるJ-FIL（Jet and Flash Imprint Lithography）の詳細を説明しています。J-FILは波長による... -
ペロブスカイト量子ドット（PQD）の基本概要と応用
(情報提供元不明) 国際 概要 このページは、ペロブスカイト量子ドット（PQD）の概要を提供しており、それらをカルシウムチタン酸化物と同様の結晶構造を持つペロブスカイト材料に基づく量子ドットのクラスとして説明しています。PQDは、欠陥に対する耐性、... -
テーラーメイドの脂質ベースナノ粒子を癌治療用薬剤送達システムとして応用するセラノスティクス
ACS Applied Nano Materials アメリカ 概要 このレビュー記事は、癌治療のためのセラノスティックプラットフォームとしての脂質ベースナノ粒子（LNP）の進歩に焦点を当てています。LNPは、治療ペイロードとイメージング剤を統合し、リアルタイムモニタリン... -
直接ナノインプリントリソグラフィを用いた非線形フォトニクスの実現
Optical Nanomaterial Group (ETH Zurich) スイス 概要 この研究は、直接ナノインプリントリソグラフィ（NIL）を非線形フォトニクスに応用することについて説明しています。ナノ粒子とカスタム設計されたゾルゲル材料を利用することで、高い光学品質を持つ... -
2D材料の展望2026：グラフェン、MoS2、h-BN、MXenesにおけるイノベーションと特許動向
PatSnap Eureka シンガポール 概要 このPatSnap Eurekaのレポートは、2026年における2D材料の展望を分析しています。グラフェン、二硫化モリブデン（MoS2）、六方晶窒化ホウ素（h-BN）、MXeneといった主要な材料に焦点を当て、それらのイノベーションベク... -
キヤノン、ナノインプリント技術に大規模投資：日本新工場で先進チップ製造を標的
Move Silicon 日本 概要 キヤノンは、栃木県宇都宮市に500億円を投じてリソグラフィ装置の新工場を建設すると発表しました。この投資は、リソグラフィシステムの生産能力を3倍に高め、同社のナノインプリントリソグラフィ（NIL）技術をASMLのEUV技術に対抗... -
ナノインプリントリソグラフィはEUVにすぐに匹敵しないだろう：コストとスループットの現実
Bits&Chips オランダ 概要 この記事は、ナノインプリントリソグラフィ（NIL）が近い将来、最先端のチップ製造においてEUVリソグラフィと競合する可能性は低いと論じています。NILは低コストと低消費電力という利点を持つものの、マスクの耐久性や、大量生... -
ナノインプリントリソグラフィシステム市場レポート 2026年版：政府のインセンティブとパートナーシップが成長を牽引
PRDUA Research & Media Private Limited インド 概要 本記事はPRDUA Research & Media Private Limitedが発行した市場調査レポートの概要紹介です。このレポートは、2026年におけるナノインプリントリソグラフィ（NIL）システム市場の成長が、政府の... -
量子ドット市場2026：優れたディスプレイ性能と色精度を解き放つ
The Business Research Company 国際 概要 本記事はThe Business Research Companyが発行した市場調査レポートの概要紹介です。このレポートは、2026年における量子ドット（QD）市場に焦点を当て、次世代ディスプレイ技術におけるQDの重要性が増しているこ... -
ペロブスカイト量子ドット：次世代ディスプレイ向け最新進歩と展望
PMC (PubMed Central) 国際 概要 この論文は、次世代ディスプレイ応用におけるペロブスカイト量子ドット（PQD）の最近の進歩と展望をレビューしています。PQDは、広い励起波長範囲、調整可能な発光、狭い半値幅、高発光量子収率といった優れた発光特性を持... -
ナノテクノロジー・材料分野の研究開発俯瞰報告書 2026年版
JST (科学技術振興機構) 日本 概要 本記事は、科学技術振興機構（JST）が発行した「研究開発の俯瞰報告書 ナノテクノロジー・材料分野（2026年）」の概要を紹介しています。この報告書は、日本のナノテクノロジーおよび材料分野における研究開発の戦略的な... -
OCSiAl、導電性ナノチューブインクによる電子回路印刷をデモンストレーション
OCSiAl ルクセンブルク 概要 OCSiAlは、同社のTUBALL™グラフェンナノチューブを含む導電性インクを使用して電子回路を印刷できることを示す最新情報を共有しました。このデモンストレーションでは、紙の上に直接電気経路を作成できることが示され、... -
標準化によって成長し続けるナノテクノロジーの可能性
ANSI (American National Standards Institute) アメリカ 概要 この記事は、ナノテクノロジーに特化した標準が、その進歩と商業化に与える影響について論じています。NIOSHおよびVireo Advisorsの専門家は、ISO技術委員会229が、用語、計測、安全衛生、材... -
エンジニアードナノ材料の職場暴露：経路、リスク評価、規制に関するレビュー
Tecno Scientifica Publishing 国際 概要 このレビュー記事は、エンジニアードナノ材料（ENM）の職場暴露経路、リスク評価戦略、および規制枠組みに関する現在の知見をまとめたものです。製造および取り扱い過程における主要な暴露経路として吸入が強調さ...
